DGAP-News: AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf den Markt
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AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf
den Markt
08.11.2011 / 06:58
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AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf den
Markt
Aachen, 8. November 2011 - Nach der erfolgreichen Produkteinführung der
CRIUS(R) II-L gibt AIXTRON SE (FSE: AIX; NASDAQ: AIXG) den nächsten
Meilenstein bekannt: Mit einer Konfiguration von beispielsweise 19x4-Zoll
liefert die neue CRIUS(R) II-XL nicht nur die weltweit größte Kapazität,
sondern auch höchsten Durchsatz und maximale Produktivität. Damit sind
Hersteller in der Lage, bei effizientester Ausnutzung der Standfläche zu
niedrigsten Betriebskosten zu produzieren.
Die neue CRIUS(R) II-XL-Konfiguration basiert auf der gleichen Hardware wie
schon das Vorgängermodell CRIUS(R) II-L. 'Lediglich die Suszeptorplatte
muss ausgetauscht werden', so Dr. Johannes Lindner, Programm-Manager bei
AIXTRON für Close Coupled Showerhead(R) (CCS)-Technologie. 'Trotz größerer
Kapazität entstehen so praktisch keine zusätzlichen Kosten, da wir beim
Design der neuen Anlage höchstes Augenmerk darauf gelegt haben, dass derÜbergang von der CRIUS(R) II-L zur CRIUS(R) II-XL so einfach wie möglich
vollzogen werden kann. Auch die Prozesse müssen nur geringfügig angepasst
werden.'
Grundlage für das neue Anlagendesign war erneut eine detaillierte Analyse
des Marktes, bei der die LED-Herstellungskosten im Mittelpunkt standen.
'Die Hersteller sind gezwungen, immer kostengünstiger zu produzieren',
erklärt Dr. Rainer Beccard, Vice President Marketing bei AIXTRON. 'Mit den
Möglichkeiten der MOCVD-Technologie lässt sich diese Kostenreduktion
erreichen. Da die Reaktorkapazität den größten Einfluss auf die
Betriebskosten hat, haben wir uns für die 19x4-Zoll-Konfiguration
entschieden. Intensive Tests in unserem Labor haben gezeigt, dass die neue
Anlage neben ihrer Größe maximale Homogenität und hohe Erträge liefert. Die
CRIUS(R) II-XL ist für Wafergrößen von 2 bis 8 Zoll optimiert. Der Wechsel
auf eine andere Wafergröße erfolgt durch den einfachen Austausch des
Suszeptors - weitere Hardware- oder Prozessanpassungen sind auch hier nicht
erforderlich', so Dr. Beccard.
AIXTRON Showerhead-Technologie ist aufgrund ihrer ausgezeichneten
Prozessstabilität und Zuverlässigkeit eine anerkannte Größe im MOCVD-Markt
und wird nun durch das neue Modell ergänzt. Die CRIUS(R) II-XL ist
standardmäßig mit dem ARGUS In-situ-Messgerät und einem höhenverstellbaren
Suszeptor ausgestattet, der es dem Anwender ermöglicht, während des
Prozesses die optimale Reaktorgeometrie für jedes denkbare Prozess-Regime
auszuwählen.
MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische
Gasphasenabscheidung
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